Октябрь 2007
Сверление отверстий, подлежащих металлизации, является одной из важных операций в производстве печатных плат, так
Сверлением создается микрошероховатость поверхности, которая
Расчет номинального
Осв = £>„ + 0,8(Д,-г-Д2)+26,
где Dee — номинальный диаметр сверла; D„ металлизированного отверстия; Ai — предельные отклонения диаметра, зависящие от станка и составляющие ие для отверстий диаметром до 0,8 мм и 0,12 мм для отверстий диаметром от мм, Д2 — отклонения, обусловленные деформацией материала, возникающие после выхода сверла вследствие усилий
При выборе
Предельные отклонения центров отверстий относительно узлов координатной сетки не мм, для многослойных печатных плат эта величина принята ±0,1 мм.
Рис. 6. Спиральное
сверло в — главный задний угол; р — вспомогательный задний угол
В соответствии с ГОСТ 23664—79 не должна превышать 40 мкм. Заполировка, поджог и засаливание поверхности не допускаются.
Сверление необходимо
Для скоростного сверления рекомендуются укороченные
Геометрия сверла оказывает большое влияние на качество сверления и на стойкость сверла. (рис. 6) имеют следующие основные параметры (… °): главный задний угол— 15—17; вспомогательный угол при вершине— 100—125.
Увеличенный против нормы угол при вершине влечет за собой увеличение сверла вследствие „скольжения"; при очень малом угле имеет место осевое отклонение внутри материала.
Спиральные хорошо отшлифованы для облегчения выхода стружки из зоны сверления.
Режим сверления
Частота вращения, тыс. об/мин……. 10—90
Скорость 70_15о
Скорость резания для МПП, м/мин….. 40_70
Подача, мм/об…………. 0,02—0,07
Подача при сверлении МПП, мм/об….. 0 02_0
При малых подачах происходит разрыхление стеклянных нитей, при больших — оплавление и расслоение материала. Отклонение от режимов кромок обусловливают ряд дефектов, приведенных в табл. 5.
Уровень электролита следует поддерживать, доливая ванну водой или ортофосфориой Кислотой в зависимости от плотности составляет 1560—1600 кг/м3 Бутанол вводится по мере ослабления блеска поверхности или появления растравленных
Используя комбинированный метод, можно изготавливать платы с повышенной плотностью монтджа. В этом случае исходным материалом тонкой мед ной фольгой (толщина фольги 5 мкм). Медная фольга защищается от возможных транспортировании и сверлении отверстий медным или алюминиевым листовым протектором толщиной 50—75 мкм. Материал «Слофаднт», а с алюминиевым протектором — СТПА. После сверления отверстий в заготовке и меднения протектор отделяется от поверхности фольги и укладывается в отдельную тару для последующей металлургии как вторичное сырье. Заготовка подвергается гальванической металлизации («затяжке») и другим операциям, приведенным
Продолжительность операции травления уменьшается в 5 раз, так как толщина слоя меди, подлежащая вытравливанию, составляет 45—50 мкм в случае применения обычных фоль-гированных диэлектриков. В результате этого эффект бокового н достигается возможность получения узких проводников шириной до 0,15 мм и таких же что характерно для плат, изготавливаемых по полуаддитивной технологии.
Технологический процесс изготовления двусторонних печатных плат материала типа «Слофадит» обеспечивает повышенную плотность монтажа (класс 3 по ГОСТ 23751—79), что многослойные платы в 6—8 слоев заменить на двусторонние.
Широкое применение микросборок, интегральных схем и
Рис. 4. Структура многослойной платы: / — металлический слой; 2 — тонкий диэлектрик слоя МПП; 3 стеклоткани;
4 — контактная площадка в слое МПП
Структура многослойной платы представлена на рис. 4. МПП состоит из трех основных этапов: 1) подготовки отдельных слоев; 2) сборки пакета 3) получения проводящего рисунка на наружных слоях.
На заготовках из тонких фольгнрованных диэлектриков, например
Вначале на каждом технологическом поле отдельно взятого слоя с проводящим рисунком фиксирующие отверстия, с помощью которых прн сборке достигается хорошее совмещение контактных площадок по отверстий устанавливается в зависимости от размеров платы нормативно-технической документацией и доходит до 10.
Для установка совмещения н штамповки базовых отверстий. Установка рассчитана на заготовки плат с максимальным мм и минимальным — 200X200 мм. Шаг перемещения стола — 10 мм. Точность базовых отверстий — 5 мм. Аналогичные отверстия пробиваются в листах прокладочной стеклоткани СП.
Прокладочная собой листы стеклоткани нз крученых нитей диаметром 0,1—0,25 мм, пропитанной эпоксидным лаком ЭД-8-Х.
Для обеспечения высокой прочности сцепления поверхности медных проводников с изолирующими межслойными материалами необходимо придать им микрошероховатость, оксидный слой соответствующей химической или струйной обработкой растворами’ травителей состава (г/л): СиС12—40—45, NH4CI— (NH4)2S208 —200—250, H2S04 — 5—7. Температура раствора — до 60 °С. Для выполнения установка в виде линии химической подготовки слоев перед прессованием. Линия модульной конструкции имеет модули для подтравливаиия, промывок и сушки заготовок. Скорость конвейера регулируется и этим обеспечивается и качество обработки.
При наличии больших участков меди более эффективно химическое оксидирование в растворах (масс, доли, %): NaC!02 — 48; NaOH — 40; Na3P04 — 12. Обработка водном растворе, содержащем 180 г/л этого состава, при температуре 90 °С до образования Для осуществления этой операции можно использовать линии ванн из комплекта ванн гальванической линии отдельной компоновке.
Обработка в концентрированной сериой кислоте при температуре 35—40 °С в течение 0,5—0,7 мии, при травления получается в пределах 15—20 мкм.
На некоторых предприятиях применяют более агрессивный раствор в сериой и плавиковой кислот, взятых в отношении 5:1. Серная кислота растворяет эпоксидную смолу,
Si02 + 4HF —•> SiF4 + 2Н20.
Приложение 1. Материалы для изготовления одно- и двусторонних печатных плат
|
Наименование |
Марка |
ГОСТ, ТУ |
Толщина материэлэ |
|
Гетинакс фольгировэнный |
ГФ-1-35 ГФ-1-50 ГФ-.2-35 ГФ-2-50 ГФ-1-35Г ГФ-1-50Г ГФ-2-35Г ГФ-2-50Г |
ГОСТ 10316—78 |
1,0—3,0 |
|
Фол ьгированный гетинакс общего назначения |
ГОФ-1-35Г ГОФВ-2-35Г |
ТУ 16-503.195—80 |
1,0—3,0 |
|
Фольгировэнный стеклотекстолит |
СФ-1-35 СФ-2-35 СФ-1-50 СФ-2-50 СФ-1-35Г СФ-2-35Г СФ-1-50Г СФ-2-50Г СФ-1Н-35 СФ-2Н-35 СФ-1Н-50 СФ-2Н-50 СФ-1Н-35Г СФ-2Н-35Г СФ-1Н-50Г СФ-2Н-50Г |
ГОСТ 10316—78 |
0,5—3,0 |
|
Стеклотекстолит фольгировэнный повышенной натре востойкости |
СФПН 1-50 СФПН-2-50 |
ТУ 6-05-1776—76 |
0,5—3,0 |
|
Диэлектрик фольгировэнный галь-ваиостойкий |
ФДГ-1 |
ТУ 16-503.141—74 |
0,5—3,0 |
Теоретические основы процесса химического меднения
Получение металлического проводящего рисунка как в отверстиях, так и на материалов осуществляется обычно в две стадии. Вначале диэлектрик металлизуется химическим (бестоковым) способом, а тонкий слой металла осаждается медь гальваническим способом до необходимой толщины металлического слоя. В
Способом химической металлизации можно осаждать различные металлы: серебро,
Процесс химического меднения характеризуется сравнительно меньшими затратами на материалы, сами растворы и удобны в эксплуатации, так как не требуют сложного оборудования.
Химическое восстановление меди из
Процесс химического меднения является типичным окислительно-восстановительным процессом, протекающим катализа-
тора. Этот процесс относится к категории автокаталитических, т. е. начинается он под действием палладия, а затем образовавшиеся кристаллы меди сами катализируют дальнейшее выделение меди и процесс
Окислительно-восстановительная реакция образования металлической меди может быть представлена в следующем виде:
катодная реакция — Cu2+
анодная реакция — НСОН + ЗОН"- —"HCOO" +2Н20 + 2е.
Стандартный окислительно-восстановительный потенциал этой реакции равен 1,07
НСОН + он- -"НСОО-+Н2.
Суммарная меди
Cu2++2HCOH+40H–^lCu + 2HCOO-+H2 + 2H20.
Справедливость этой реакции подтверждается тем, что образуются указанные в
Увеличенный и щелочи объясняется протеканием реакции Каниццаро:
2HCQH +NaOH—* HCOONa + СШОН.
Побочной реакцией, происходящей при меди, является частичное восстановление меди до одновалентного состояния и образования закиси меди Cu20 50Н- + НСОН-^Си20 + НС00- + ЗН20.
Образование частиц закиси меди является одной из раствора, так как они, играя роль катализатора, обусловливают восстановление меди в объеме раствора. явления в состав раствора вводят в очень малых количествах вещества-стабилизаторы, которые адсорбируясь на
В качестве комплексообразователей служат обычно калий-натрий виннокислый (тартрат калия-натрия), динатриевая соль Б), лимонная кислота, этилен-диамин.