Архив рубрики «Электрохимический способ получения печатных плат»
Уровень электролита следует поддерживать, доливая ванну водой или ортофосфориой Кислотой в зависимости от плотности составляет 1560—1600 кг/м3 Бутанол вводится по мере ослабления блеска поверхности или появления растравленных
Используя комбинированный метод, можно изготавливать платы с повышенной плотностью монтджа. В этом случае исходным материалом тонкой мед ной фольгой (толщина фольги 5 мкм). Медная фольга защищается от возможных транспортировании и сверлении отверстий медным или алюминиевым листовым протектором толщиной 50—75 мкм. Материал «Слофаднт», а с алюминиевым протектором — СТПА. После сверления отверстий в заготовке и меднения протектор отделяется от поверхности фольги и укладывается в отдельную тару для последующей металлургии как вторичное сырье. Заготовка подвергается гальванической металлизации («затяжке») и другим операциям, приведенным
Продолжительность операции травления уменьшается в 5 раз, так как толщина слоя меди, подлежащая вытравливанию, составляет 45—50 мкм в случае применения обычных фоль-гированных диэлектриков. В результате этого эффект бокового н достигается возможность получения узких проводников шириной до 0,15 мм и таких же что характерно для плат, изготавливаемых по полуаддитивной технологии.
Технологический процесс изготовления двусторонних печатных плат материала типа «Слофадит» обеспечивает повышенную плотность монтажа (класс 3 по ГОСТ 23751—79), что многослойные платы в 6—8 слоев заменить на двусторонние.
Широкое применение микросборок, интегральных схем и
Рис. 4. Структура многослойной платы: / — металлический слой; 2 — тонкий диэлектрик слоя МПП; 3 стеклоткани;
4 — контактная площадка в слое МПП
Структура многослойной платы представлена на рис. 4. МПП состоит из трех основных этапов: 1) подготовки отдельных слоев; 2) сборки пакета 3) получения проводящего рисунка на наружных слоях.
На заготовках из тонких фольгнрованных диэлектриков, например
Вначале на каждом технологическом поле отдельно взятого слоя с проводящим рисунком фиксирующие отверстия, с помощью которых прн сборке достигается хорошее совмещение контактных площадок по отверстий устанавливается в зависимости от размеров платы нормативно-технической документацией и доходит до 10.
Для установка совмещения н штамповки базовых отверстий. Установка рассчитана на заготовки плат с максимальным мм и минимальным — 200X200 мм. Шаг перемещения стола — 10 мм. Точность базовых отверстий — 5 мм. Аналогичные отверстия пробиваются в листах прокладочной стеклоткани СП.
Прокладочная собой листы стеклоткани нз крученых нитей диаметром 0,1—0,25 мм, пропитанной эпоксидным лаком ЭД-8-Х.
Для обеспечения высокой прочности сцепления поверхности медных проводников с изолирующими межслойными материалами необходимо придать им микрошероховатость, оксидный слой соответствующей химической или струйной обработкой растворами’ травителей состава (г/л): СиС12—40—45, NH4CI— (NH4)2S208 —200—250, H2S04 — 5—7. Температура раствора — до 60 °С. Для выполнения установка в виде линии химической подготовки слоев перед прессованием. Линия модульной конструкции имеет модули для подтравливаиия, промывок и сушки заготовок. Скорость конвейера регулируется и этим обеспечивается и качество обработки.
При наличии больших участков меди более эффективно химическое оксидирование в растворах (масс, доли, %): NaC!02 — 48; NaOH — 40; Na3P04 — 12. Обработка водном растворе, содержащем 180 г/л этого состава, при температуре 90 °С до образования Для осуществления этой операции можно использовать линии ванн из комплекта ванн гальванической линии отдельной компоновке.
Обработка в концентрированной сериой кислоте при температуре 35—40 °С в течение 0,5—0,7 мии, при травления получается в пределах 15—20 мкм.
На некоторых предприятиях применяют более агрессивный раствор в сериой и плавиковой кислот, взятых в отношении 5:1. Серная кислота растворяет эпоксидную смолу,
Si02 + 4HF —•> SiF4 + 2Н20.
|
Операция |
Номер варианта |
|
|
1 |
2 |
|
|
Механическая зачистка фольги |
+ |
|
|
Химическое обезжиривание |
+ |
+ |
|
Пронывка в горячей и холодной воде |
+ |
|
|
Подтравливаиие |
+ |
— |
|
Промывка в холодной воде |
— |
|
|
Активирование |
+ |
|
|
. Промывка |
+ |
+ |
|
Промывка в холодной воде |
+ |
+ |
|
Электролитическое полирование |
— |
|
|
Обработка в растворе «ускоритель» |
+ |
— |
|
Промывка в холодной воде |
+ |
+ |
Ниже даны основные характеристики
Химическое обезжиривание осуществляется в растворе следующего состава (г/г): трииатрийфосфат — 30—35, сода кальцинированная — 30—35, 3—5.
В том случае, когда раствор используется в установках струйной обработки, в него вводится эмульсия КЭ-10-21 (1—2 г/л). Температура раствора 40—60 °С, продолжительность обработки 2—5 мин.
Подтравливаиие медной растворе, содержащем 200—250 г/л надсериокислого аммония и 5—7 г/л серной кислоты.
Промывки в холодной осуществляются в ваннах с проточной водой. С целью значительного снижения расхода воды рекомендуется ванны каскадного типа.
Электролитическое полирование заключается в анодной обработке заготовок, в результате которой растворяются
Электролитом служит раствор ортофосфориой кислоты (1140— 1170 г/л) с добавлением 70—100 мл/л бутилового спирта (бутанол)
Раствор готовится следующим бутанолу добавляется равное количество воды, в полученную смесь медленно при постоянном перемешивании добавляется
Катодами листы из меди или коррозионно-стойкой стали, помещенные в чехлы из хлорииовой ткани. Отношение
Процесс электрополироваиия
Продолжительность операций 15—20 мин. На катодной поверхности вначале выделяется водород, но в электролите меди, начинается ее осаждение в виде порошка. Увеличением катодной поверхности можно виде пленки, которая легко снимается с поверхности катода.