<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<rss version="2.0"
	xmlns:content="http://purl.org/rss/1.0/modules/content/"
	xmlns:wfw="http://wellformedweb.org/CommentAPI/"
	xmlns:dc="http://purl.org/dc/elements/1.1/"
	xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom"
	xmlns:sy="http://purl.org/rss/1.0/modules/syndication/"
	>

<channel>
	<title>Печатные платы</title>
	<atom:link href="http://schematika.ru/feed/" rel="self" type="application/rss+xml" />
	<link>http://schematika.ru</link>
	<description>Помощь радиоэлектронщику</description>
	<pubDate>Sat, 06 Jun 2009 09:07:24 +0000</pubDate>
	
	<language>en</language>
	<sy:updatePeriod>hourly</sy:updatePeriod>
	<sy:updateFrequency>1</sy:updateFrequency>
			<item>
		<title>МЕХАНИЧЕСКАЯ ОБРАБОТКА В ПРОЦЕССАХ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПЛАТ</title>
		<link>http://schematika.ru/2009/06/mexanicheskaya-obrabotka-v-processax-izgotovleniya-plat/</link>
		<comments>http://schematika.ru/2009/06/mexanicheskaya-obrabotka-v-processax-izgotovleniya-plat/#comments</comments>
		<pubDate>Sat, 06 Jun 2009 09:07:24 +0000</pubDate>
		<dc:creator>schematic</dc:creator>
		
		<category><![CDATA[МЕХАНИЧЕСКАЯ ОБРАБОТКА В ПРОЦЕССАХ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПЛАТ]]></category>

		<category><![CDATA[Получение заготовок]]></category>

		<guid isPermaLink="false">http://schematika.ru/?p=25</guid>
		<description><![CDATA[ 6. Получение заготовок 
 Резиа заготовок. Печатные платы выпускаются самых различных размеров и конфигураций, изготовление их поштучно влечет за собой большой расход материалов и значительное увеличение трудоемкости производства, поэтому наиболее рационально группировать 
 платы на одну заготовку таким образом, чтобы получить возможность одновременно обработать максимальное количество плат. 
 Размер заготовок из диэлектрического материала определяют [...]]]></description>
			<content:encoded><![CDATA[<p> 6. Получение заготовок </p>
<p> Резиа заготовок. Печатные платы выпускаются самых различных размеров и конфигураций, изготовление их <noindex><nofollow>поштучно влечет за собой</nofollow></noindex> большой расход материалов и значительное увеличение трудоемкости производства, поэтому наиболее рационально группировать </p>
<p> платы на <noindex>одну заготовку таким</noindex> образом, чтобы получить возможность одновременно обработать максимальное количество плат. </p>
<p> Размер заготовок из диэлектрического материала <noindex>определяют исходя нз</noindex> размеров транспортеров, ванн химической и гальванической обработки, ширины рулонов сухого пленочного фоторезиста, рабочего <noindex><nofollow>поля сверлильных</nofollow></noindex> станков, сеткографических трафаретов и других габаритных ограничений, обусловленных типом применяемого оборудования, а также <noindex>с учетом наиболее рационального</noindex> раскроя диэлектрических и вспомогательных материалов. </p>
<p> При определении размеров заготовок учитывают необходимость наличия технологического поля <nofollow>со всех</nofollow> четырех сторон шириной ие более 10 мм (ГОСТ 23662—79) при изготовлении двусторонних и <noindex>односторонних плат и 30</noindex> мм — при изготовлении многослойных печатных плат. Для групповых заготовок ширина технологического поля <nofollow>по периметру принимается</nofollow> 30 мм, а ширина технологического поля между платами ие должна превышать 10 мм. </p>
<p> Наиболее <noindex>употребителен размер</noindex> заготовок 530X530 мм. Максимальный размер единичной платы 500X500 мм. Получение заготовок выполняется в <nofollow>два приема. Вначале</nofollow> листы диэлектрика режутся иа полосы, а затем полосы режутся на заготовки. В условиях <noindex>крупносерийного и</noindex> массового производства заготовки получают вырубкой в штампах иа кривошипных прессах. </p>
<p> Разрезка диэлектрических материалов для <noindex>плат, а</noindex> также вспомогательных материалов, таких как прокладочная стеклоткань, картон, триацетатная пленка и др., производится <noindex><nofollow>с помощью роликовых</nofollow></noindex> или гильотинных ножниц. </p>
<p> Предельные отклонения размеров составляют &plusmn;1,5 мм для заготовок, толщина которых более <nofollow>0,2 мм,</nofollow> для заготовок толщиной менее 0,2 мм &plusmn;2,0 мм. </p>
<p> Роликовые или гильотинные ножницы должны обеспечивать <noindex>возможность разрезки материалов толщиной</noindex> до&#8217; 3 мм с точностью &plusmn;0,2 мм. </p>
<p> Зазор между режущими кромками иожей должен быть <nofollow>в пределах</nofollow> 0,02—0,03 мм; при большем зазоре образуются трещины, сколы, происходит расслоение материала. Скорость резаиня <nofollow>2—10 м/мин. Учитывая, что</nofollow> резанию подвергаются стеклотекстолиты, т. е. материалы, армированные стеклотканью, режущие кромки ножей гильотины илн <nofollow>ролики роликовых ножниц должны</nofollow> быть изготовлены из твердых сплавов. </p>
<p> Для получения заготовок можно использовать следующее оборудование: гильотинные ножницы <noindex>ОА-805; кривошипные ножницы с</noindex> наклонным ножом (ТУ 2-041-1033—79); ножницы роликовые одно-ножепые и многоножевые производительностью 360 и 720 <nofollow>заготовок в час. Гильотинные</nofollow> и кривошипные ножницы позволяют резать материал толщиной до 3 мм при максимальной ширине <noindex><nofollow>разрезаемого листа 1600 мм.</nofollow></noindex> Длина отрезаемого листа по заднему упору 600 мм. </p>
<p> Максимальный размер заготовок 500X500 мм — <nofollow>для одно-ножевых</nofollow> и в пределах ширины листа — для миогоножевых. Основные технические характеристики роликовых ножниц <noindex><nofollow>следующие: толщина разрезаемого материала</nofollow></noindex> до 3 мм; скорость резания материала 2—10 м/мин; осевой зазор, между роликами 0,02—0,05 <noindex><nofollow>мм. </p>
<p> В условиях опытного производства</nofollow></noindex> можно производить резку заготовок на станках собственного изготовления, в которых режушим инструментом служат <noindex>образипиые или</noindex> алмазные круги, имеющие линейную скорость при вращении 40—50 м/с при подаче материала со <nofollow>скоростью 0,4—0,6</nofollow> м/мин. </p>
<p> Как указывалось выше, в условиях крупносерийного производства заготовки плат из полос материала целесообразно <nofollow>получать штамповкой</nofollow> с помощью кривошипных прессов К 2324 пли К 2328. Рекомендуется также пресс КД <noindex><nofollow>(ТУ 2-041-684—80). Вырубные штампы</nofollow></noindex> следует изготавливать из легированных сталей марок Х12М или Х12Ф. </p>
<p> Заготовки из тонких диэлектриков толщиной <noindex><nofollow>до 0,25</nofollow></noindex> мм рекомендуется подвергать термостабилизацин с целью завершения процессов полимеризации смолы. Для этого заготовки <nofollow>помещают в&#8217;открытую тару и</nofollow> подвергают трем циклам нагрева и охлаждения. Режим одного цикла: до 150 &quot;С в <noindex><nofollow>течение 40</nofollow></noindex> мни, выдержка при этой температуре 20 мин, охлаждение до 30 &deg;С в течение <noindex><nofollow>40 мин.</p>
<p></nofollow></noindex></p>

	<br />Метки:<a href="http://schematika.ru/tag/mexanicheskaya-obrabotka-v-processax-izgotovleniya-plat/" title="МЕХАНИЧЕСКАЯ ОБРАБОТКА В ПРОЦЕССАХ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПЛАТ" rel="tag">МЕХАНИЧЕСКАЯ ОБРАБОТКА В ПРОЦЕССАХ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПЛАТ</a>, <a href="http://schematika.ru/tag/poluchenie-zagotovok/" title="Получение заготовок" rel="tag">Получение заготовок</a><br />
]]></content:encoded>
			<wfw:commentRss>http://schematika.ru/2009/06/mexanicheskaya-obrabotka-v-processax-izgotovleniya-plat/feed/</wfw:commentRss>
		</item>
		<item>
		<title>Одним из вариантов электрохимического процесса</title>
		<link>http://schematika.ru/2009/06/odnim-iz-variantov-elektroximicheskogo-processa/</link>
		<comments>http://schematika.ru/2009/06/odnim-iz-variantov-elektroximicheskogo-processa/#comments</comments>
		<pubDate>Mon, 01 Jun 2009 07:10:07 +0000</pubDate>
		<dc:creator>schematic</dc:creator>
		
		<category><![CDATA[Электрохимический способ получения печатных плат]]></category>

		<category><![CDATA[Меднение]]></category>

		<category><![CDATA[химическое меднение]]></category>

		<guid isPermaLink="false">http://schematika.ru/?p=14</guid>
		<description><![CDATA[ Одним из вариантов электрохимического (полуаддитнвного) процесса является так называемый &#171;тентинг-процесс&#187;. В этом варианте заготовка печатной платы, в которой просверлены отверстия, металлизируется полностью химическим, а затем -*- гальваническим меднением с толщиной слоя 25—30 мкм. Далее с помощью сухого пленочного фоторезиста толщиной 40—60 мкм и фотошаблона-негатива получается защитный рисунок из пленки фоторезиста, перекрывающей все отверстия и [...]]]></description>
			<content:encoded><![CDATA[<p> Одним из вариантов электрохимического (полуаддитнвного) процесса является так называемый &laquo;тентинг-процесс&raquo;. В этом варианте заготовка <noindex>печатной платы,</noindex> в которой просверлены отверстия, металлизируется полностью химическим, а затем -*- гальваническим меднением с <nofollow>толщиной слоя 25—30</nofollow> мкм. Далее с помощью сухого пленочного фоторезиста толщиной 40—60 мкм и фотошаблона-негатива получается <noindex>защитный рисунок из</noindex> пленки фоторезиста, перекрывающей все отверстия и защищающей их от попадания травильного раствора. Как <nofollow>и в обычном</nofollow> химическом методе, проводящий, рисунок здесь образуется после травления меди. Проводники, контактные площадки и <noindex>стенки отверстий облужнваются</noindex> сплавом ПОС-60 горячим способом по методу &laquo;Левельэр&raquo; &#8216; или ППВ (покрытие припоем с <noindex>выглаживанием). Тентинг-процесс дает</noindex> хорошие результаты при изготовлении многослойных плат с внутренними переходами нз диэлектрика, обе стороны <noindex><nofollow>которого покрыты</nofollow></noindex> 5- или 35-микронной медной фольгой. </p>
<p> Весьма перспективно применение электрохимического способа в производстве металлических плат, <nofollow>обеспечивающих повышенную теплопроводность.</nofollow> Структура такой платы представлена на рис. 3. Основными операциями техвологического процесса являются: сверление <noindex>отверстий; анодирование в</noindex> 20 %-ном растворе H2SO4 при &laquo;а =1,5 А/дм2 в течение двух часов , <noindex>для получения оксидной</noindex> пленки, повышающей электроизоляционные свойства поверхности; нанесение изоляционного слоя; химическое меднение всей поверхности с <noindex>&laquo;затяжкой&raquo; гальваническим меднением. </p>
<p> Дальнейшие</noindex> операции выполняются в последовательности, описанной выше. В качестве изоляционного слоя лучшие результаты получены <noindex>нанесением четырех</noindex> слоев порошковой краски ПЭП-219 с оплавлением каждого слоя при температуре 180 &deg;С. </p>
<p> Подготовка поверхности <nofollow>перед химическим меднением</nofollow> осуществляется следующим образом. После обезжиривания в растворе тринатрийфосфата следует обработка в ацетоне, разбавленным <noindex>водой в отношении</noindex> 2:1, в течение 10 мин для повышения гидрофилыюсти поверхности, а затем подтравливание в <noindex>растворе следующего</noindex> состава: хромовый ангидрид (30 г/л), серная кислота (650 мл/л) при температуре 50—60 &deg;С <noindex>с последующей</noindex> промывкой и нейтрализацией. </p>
<p> С целью обеспечения необходимой прочности сцеплеиня проводников с основанием предусмотрено создание <noindex><nofollow>мнкрошероховато- </p>
<p><img src="http://schematika.ru/wp-content/uploads/technika-3.png" alt="" width="209" height="143" />
<p> сти поверхности посредством</nofollow></noindex> травления в сернохромовой смеси. Эта операция вызывает серьезные затруднения в производстве, связанные с <noindex>токсичностью хромовых соединений и</noindex> необходимостью принятия мер по обезвреживанию отходов. Большой интерес представляет безотходная технология подготовки поверхности <noindex>с помощью,</noindex> например, коронного разряда. В настоящее время ведутся экспериментальные работы в этом направлении.</p>

	<br />Метки:<a href="http://schematika.ru/tag/mednenie/" title="Меднение" rel="tag">Меднение</a>, <a href="http://schematika.ru/tag/ximicheskoe-mednenie/" title="химическое меднение" rel="tag">химическое меднение</a><br />

	<h4>Посмотрите также</h4>
	<ul class="st-related-posts">
	<li><a href="http://schematika.ru/2008/11/elektroximicheskij-sposob-polucheniya-pechatnyx-plat/" alt="Электрохимический способ получения печатных плат" title="Электрохимический способ получения печатных плат (3 Ноябрь 2008)">Электрохимический способ получения печатных плат</a><br/><small> Этот способ осуществляется посредством следующих основных операций: резки заготовок, сверления отверстий, подлежащих металлизации; подготовки поверхности; химического меднения; усиления меди гальваническим меднением; нанесения защитного рельефа на пробельные места^ гальванического меднения; гальванического покрытия сплавом олово—свинец; удаления защитного рельефа; травления меди с пробельных мест. 
 Исходным материалом служит нефольгированный стеклотекстолит марок СТЭФ-1-2ЛК (ТУ АУЭО.037.000) или СТЭК-1,5 (ТУ [...] </small></li>
	<li><a href="http://schematika.ru/2008/10/texnologicheskie-processy-izgotovleniya-pechatnyx-plat-kombinirovannym-metodom/" alt="Технологические процессы изготовления печатных плат комбинированным методом" title="Технологические процессы изготовления печатных плат комбинированным методом (17 Октябрь 2008)">Технологические процессы изготовления печатных плат комбинированным методом</a><br/><small>    Номер 
  &nbsp;    Номер 
   Операция 
     опера- 
   Операция 
   опера- 
     ции 
  &nbsp;    ции 
  &nbsp;     &nbsp;    А. [...] </small></li>
	<li><a href="http://schematika.ru/2008/12/k-nedostatkam-oboix-sposobov-mozhno-otnesti-sleduyushhie/" alt="К недостаткам обоих способов можно отнести следующие" title="К недостаткам обоих способов можно отнести следующие (3 Декабрь 2008)">К недостаткам обоих способов можно отнести следующие</a><br/><small> 1.&nbsp;Разрыв технологического процесса из-за применения ручной операции лакировки, требующей высокой квалификации маляра. 
 2.&nbsp;Сверление через лаковую пленку ухудшает стойкость сверл. 
 3.&nbsp;Жидкие фоторезисты создают защитный рисунок толщиной не более 12 мкм, тогда как гальваническое осаждение меди и покрытия производится на толщину от 30 до 60 мкм (н более). В результате этого металл нарастает за [...] </small></li>
	<li><a href="http://schematika.ru/2008/11/additivnyj-sposob-izgotovleniya-plat/" alt="Аддитивный способ изготовления плат" title="Аддитивный способ изготовления плат (2 Ноябрь 2008)">Аддитивный способ изготовления плат</a><br/><small> Этот способ предусматривает получение проводящего рисунка из меди толщиной 25—30 мкм, осажденной химическим способом (толстослойное химическое меднение). При этом слой меди должен иметь плотность 8800—8900 кг/м3, чистоту 99,8—99,9 %, электрическое сопротивление не более 0,0188 Ом-мм и эластичность, характеризующуюся величиной относительного удлинения e=4-f-6% Прочность сцепления меди с диэлектриком должна соответствовать ОТУ и составлять ие менее [...] </small></li>
	<li><a href="http://schematika.ru/2007/10/sverlenie-otverstij-podlezhashhix-metallizacii/" alt="Сверление отверстий, подлежащих металлизации" title="Сверление отверстий, подлежащих металлизации (24 Октябрь 2007)">Сверление отверстий, подлежащих металлизации</a><br/><small> Сверление отверстий, подлежащих металлизации, является одной из важных операций в производстве печатных плат, так как от ее выполнения зависит качество металлизации и точность совмещения проводящих рисунков схемы. 
 Сверлением создается микрошероховатость поверхности, которая обусловливает хорошие условия для адсорбирования каталитических частиц палладия и соответственно последующее качественное меднение. Диаметр сверла, с помощью которого производится сверление, должен [...] </small></li>
	<li><a href="http://schematika.ru/2008/09/rekomenduetsya-zagotovki-plat/" alt="Рекомендуется заготовки плат" title="Рекомендуется заготовки плат (1 Сентябрь 2008)">Рекомендуется заготовки плат</a><br/><small> Рекомендуется заготовки плат перед активацией промывать в растворе соляной кислоты (50 г/л) во избежание разбавления раствора —активатора водой. 
 Усиление меди гальваническим меднением лучше производить в ваннах без добавок блескообразователен в любых электролитах. Толщина слоя меди при этом должна составлять 5—7 мкм. 
 Последующие операции технологического процесса: нанесение защитного рельефа, гальваническое меднение, гальваническое покрытие [...] </small></li>
</ul>

]]></content:encoded>
			<wfw:commentRss>http://schematika.ru/2009/06/odnim-iz-variantov-elektroximicheskogo-processa/feed/</wfw:commentRss>
		</item>
		<item>
		<title>Перед введением добавки</title>
		<link>http://schematika.ru/2009/05/pered-vvedeniem-dobavki/</link>
		<comments>http://schematika.ru/2009/05/pered-vvedeniem-dobavki/#comments</comments>
		<pubDate>Tue, 26 May 2009 17:15:45 +0000</pubDate>
		<dc:creator>schematic</dc:creator>
		
		<category><![CDATA[ГАЛЬВАНИЧЕСКИЕ ПРОЦЕССЫ]]></category>

		<guid isPermaLink="false">http://schematika.ru/?p=49</guid>
		<description><![CDATA[ Перед введением добавки &#171;ЛТИ&#187; раствор анализируется на содержание хлора и в зависимости от концентрации хлор-иона в раствор добавляется хлористый натрий, а если хлоридов оказалось выше нормы (0,06 г/л), излишек осаждается водной суспензией сернокислого серебра. В последнюю очередь вводится блескообразующая (выравнивающая) добавка &#171;ЛТИ&#187;. После приготовления электролита фильтры насоса должны быть тщательно очищены от частиц угля, [...]]]></description>
			<content:encoded><![CDATA[<p> Перед введением добавки &laquo;ЛТИ&raquo; раствор анализируется на содержание хлора и в зависимости от концентрации <noindex>хлор-иона в раствор</noindex> добавляется хлористый натрий, а если хлоридов оказалось выше нормы (0,06 г/л), излишек осаждается <noindex><nofollow>водной суспензией сернокислого</nofollow></noindex> серебра. В последнюю очередь вводится блескообразующая (выравнивающая) добавка &laquo;ЛТИ&raquo;. После приготовления электролита фильтры <noindex>насоса должны</noindex> быть тщательно очищены от частиц угля, так как их присутствие в порах фильтра <noindex>даже в небольших</noindex> количествах повлечет за собой потерю добавки &laquo;ЛТИ&raquo; вследствие ее адсорбции активированным углем. </p>
<p> В состав <noindex>добавки &laquo;ЛТИ&raquo; входят</noindex> основной продукт (50 г), смачиватель ОС-20 (100 г), вода (400 г). Корректирование электролита <nofollow>осуществляется выделением</nofollow> компонентов. Основные компоненты электролита — медь сернокислая, кислота серная и хлориды — добавляются <nofollow>в электролит</nofollow> на основании данных химического анализа, который производится не менее 2 раз в месяц <noindex>при интенсивной работе</noindex> ванны. Корректирование по органическим добавкам выполняется после прохождения через ванну определенного количества электричества. <noindex>Так, после прохождения</noindex> 18 кКл/л электричества вводится продукт ОС-20 в количестве 1 мл/л в виде заранее <noindex>приготовленного раствора,</noindex> содержащего 100 г/л этого продукта. После прохождения 72 кКл/л вводится 1 мл/л раствора <noindex>основного компонента добавки</noindex> &laquo;ЛТИ&raquo;. Накопление органических примесей приводит к&#8217;образованию блестящих полос и хрупкости медного покрытия, что <nofollow>выражается в</nofollow> резком снижении величины относительного удлинения е. </p>
<p> При снижении величины е до значений менее 6 <nofollow>% необходимо освободить</nofollow> электролит от органических примесей введением в электролит активированного угля БАУ в количестве 10 <noindex>г/л. После тщательного</noindex> перемешивания и выдержки не менее 7 ч электролит фильтруется и в него вводится <nofollow>добавка &laquo;ЛТИ&raquo;</nofollow> в количестве, соответствующем рецептурному. </p>
<p> Основные неполадки, встречающиеся при эксплуатации кислых электролитов, и возможные причины <noindex>их появления представлены в</noindex> табл. 16. </p>
<p> Таблица 16. Основные неполадки при меднении в кислых электролитах </p>
<table>
<tr>
<td>
<p> Характер неполадок </p>
</td>
<td>
<p> Возможные причины </p>
</td>
</tr>
<tr>
<td>
<p> Грубая крупнокристаллическая <nofollow>структура осадков </p>
<p> Темные шероховатые осадки </p>
<p> Светлые</nofollow> (блестящие) полосы Пассивирование анодов Скорость осаждения покрытия меньше расчетной </p>
<p> Плохое качество металлизации в отверстиях <noindex><nofollow>плат </p>
<p> Растворение меди с провод-пиков</nofollow></noindex> на одной стороне заготовки </p>
<p> Хрупкость медных осадков </p>
<p> Отслаивание электраасаж-денной меди от фольговой меди </p>
<p> Темно-серый &laquo;подгар&raquo; осадков <noindex>из электролита с</noindex> добавкой &laquo;ЛТИ&raquo; </p>
</td>
<td>
<p> Высокая плотность тока, недостаток кислоты по отношению к содержанию меди </p>
<p> Включение в осадок <noindex>механических примесей или</noindex> закиси меди при недостатке кислоты </p>
<p> Загрязнение органическими веществами Недостаток кислоты (H2S04 или HBF4) Снижение <noindex><nofollow>выхода по току</nofollow></noindex> из-за накопления железа (Fe3 + ) </p>
<p> Недостаточная скорость покачивания плат при осаждении меди </p>
<p> Отсутствие контакта <noindex>платы с подвеской</noindex> н растворение меди вследствие биполярного эффекта </p>
<p> Накопление в электролите органических примесей </p>
<p> Наличие окисиых разделительных слоев <noindex><nofollow>на фольге или</nofollow></noindex> неудаленного слоя химически осажденной меди </p>
<p> Недостаток хлоридов </p>
</td>
</tr>
</table>
]]></content:encoded>
			<wfw:commentRss>http://schematika.ru/2009/05/pered-vvedeniem-dobavki/feed/</wfw:commentRss>
		</item>
		<item>
		<title>Электролит после отстаивания</title>
		<link>http://schematika.ru/2009/05/elektrolit-posle-otstaivaniya/</link>
		<comments>http://schematika.ru/2009/05/elektrolit-posle-otstaivaniya/#comments</comments>
		<pubDate>Sun, 24 May 2009 06:51:47 +0000</pubDate>
		<dc:creator>schematic</dc:creator>
		
		<category><![CDATA[ГАЛЬВАНИЧЕСКИЕ ПРОЦЕССЫ]]></category>

		<guid isPermaLink="false">http://schematika.ru/?p=46</guid>
		<description><![CDATA[ декантируется в рабочую ванну и доливается до уровня дистиллированной водой. 
 Кремиефторидиый электролит. Кислота поставляется химической промышленностью по ТУ 6-09-2774—73 и является более дешевым продуктом, чем борфтористоводородная кислота. Электролит состоит из 10—15 г/л крем нефтористоводородной кислоты и 250—300 г/л кремнефторида меди. Температура электролита — 18—25 &#176;С, катодная плотность тока 5 А/дм2. 
 Кремиефторидиый электролит [...]]]></description>
			<content:encoded><![CDATA[<p> декантируется в рабочую ванну и доливается до уровня дистиллированной водой. </p>
<p> Кремиефторидиый электролит. Кислота поставляется химической <noindex>промышленностью по ТУ</noindex> 6-09-2774—73 и является более дешевым продуктом, чем борфтористоводородная кислота. Электролит состоит из 10—15 <nofollow>г/л крем нефтористоводородной кислоты</nofollow> и 250—300 г/л кремнефторида меди. Температура электролита — 18—25 &deg;С, катодная плотность тока <nofollow>5 А/дм2. </p>
<p> Кремиефторидиый</nofollow> электролит меднения по своим свойствам, преимуществам и недостаткам аналогичен фторборатному электролиту. </p>
<p> Сульфатный электролит. Эти <noindex>электролиты наиболее просты в</noindex> приготовлении и эксплуатации. Однако стандартный электролит, содержащий сернокислую медь (200—250 г/л) и серную <nofollow>кислоту (50—75 г/л),</nofollow> ие получил распространения из-за плохой рассеивающей способности и малой производительности, так как осаждение <noindex><nofollow>меди происходит при</nofollow></noindex> плотности тока менее.2 А/дм2 Введение в состав электролитов разработанной Ленинградским Технологическим институтом им. <noindex>Леисовета блесквобразующей</noindex> добавки &laquo;ЛТИ&raquo; позволило значительно улучшить характеристики сульфатных электролитов, что послужило основанием для широкого <nofollow>распространения их</nofollow> в промышленности. Аналогичные по составу электролиты с фирменными добавками &laquo;Купрацид&raquo;, &laquo;Новостар&raquo;, &laquo;Кубас-1&raquo; и <noindex><nofollow>др., а также</nofollow></noindex> электролиты с добавкой &laquo;Меданит&raquo;, или Б-7211 заслужили хорошую репутацию у изготовителей печатных плат, <nofollow>так как</nofollow> они обеспечивают очень равномерное распределение меди на плате. Состав сульфатных электролитов приведен в <nofollow>табл. 14. </p>
<p> Электролит 1</nofollow> рекомендуется для металлизации печатных плат, имеющих отношение толщины платы к диаметру металлизируемых отверстий <nofollow>2,5 и менее. Электролит</nofollow> характеризуется малой агрессивностью к фоторезистам, обеспечивает хорошую эластичность меди и мелкозернистую структуру. </p>
<p> Пониженная плотность <noindex>тока обусловливает</noindex> его более низкую производительность по сравнению с другими электролитами. Электролит рекомендован ГОСТ 23770—79. </p>
<p> Электролит <noindex><nofollow>2 обеспечивает более высокую</nofollow></noindex> производительность по сравнению с электролитом 1 и хорошую рассеивающую способность. Осадки меди блестящие, <noindex><nofollow>гладкие и</nofollow></noindex> весьма эластичные. Электро- </p>
<p> Таблица 14. Состав и режим работы сульфатных электролитов </p>
<table>
<tr>
<td>
<p> Компоненты (г/л) и режим <noindex>работы </p>
</td>
<td>
<p> Номер раствора </p>
</td>
</tr>
<tr>
<td>
<p> 1 </p>
</td>
<td>
<p> 2 </p>
</td>
<td>
<p> 3 </p>
</td>
<td>
<p> 4 </p>
</td>
</tr>
<tr>
<td>
<p> Сернокислая медь</noindex> (CuSCU- </p>
</td>
<td>
<p> 220—230 </p>
</td>
<td>
<p> 200—230 </p>
</td>
<td>
<p> 60—80 </p>
</td>
<td>
<p> 70 </p>
</td>
</tr>
<tr>
<td>
<p> •5Н20) </p>
</td>
<td> &nbsp; </td>
<td> &nbsp; </td>
<td> &nbsp; </td>
<td> &nbsp; </td>
</tr>
<tr>
<td>
<p> Серная кислота </p>
</td>
<td>
<p> 50—60 </p>
</td>
<td>
<p> 50—60 </p>
</td>
<td>
<p> 150-160 </p>
</td>
<td>
<p> 170 </p>
</td>
</tr>
<tr>
<td>
<p> Этиловый спирт, мл/л </p>
</td>
<td>
<p> 10 </p>
</td>
<td>
<p> — </p>
</td>
<td>
<p> — </p>
</td>
<td>
<p> — </p>
</td>
</tr>
<tr>
<td>
<p> Хлористый натрий </p>
</td>
<td>
<p> — </p>
</td>
<td>
<p> 0,03—0,06 </p>
</td>
<td>
<p> 0,03—0,06 </p>
</td>
<td>
<p> 0,03 </p>
</td>
</tr>
<tr>
<td>
<p> Блескообразующая добавка </p>
</td>
<td>
<p> — </p>
</td>
<td>
<p> 3-4 </p>
</td>
<td>
<p> 1—2 </p>
</td>
<td>
<p> — </p>
</td>
</tr>
<tr>
<td>
<p> &laquo;ЛТИ&raquo;, мл/л </p>
</td>
<td> &nbsp; </td>
<td> &nbsp; </td>
<td> &nbsp; </td>
<td> &nbsp; </td>
</tr>
<tr>
<td>
<p> Добавка &laquo;Меданит&raquo; </p>
</td>
<td>
<p> — </p>
</td>
<td>
<p> — </p>
</td>
<td>
<p> — </p>
</td>
<td>
<p> 2—3 </p>
</td>
</tr>
<tr>
<td>
<p> (Б-7211), мл/л </p>
</td>
<td> &nbsp; </td>
<td> &nbsp; </td>
<td> &nbsp; </td>
<td> &nbsp; </td>
</tr>
<tr>
<td>
<p> Температура электролита, &deg;С </p>
</td>
<td>
<p> 18—25 </p>
</td>
<td>
<p> 18—25 </p>
</td>
<td>
<p> 18—25 </p>
</td>
<td>
<p> 18—25 </p>
</td>
</tr>
<tr>
<td>
<p> Катодная плотность тока, </p>
</td>
<td>
<p> 1-2 </p>
</td>
<td>
<p> 3-5 </p>
</td>
<td>
<p> 3-5 </p>
</td>
<td>
<p> 3-5 </p>
</td>
</tr>
<tr>
<td>
<p> А/дм2 </p>
</td>
<td> &nbsp; </td>
<td> &nbsp; </td>
<td> &nbsp; </td>
<td> &nbsp; </td>
</tr>
</table>
<p> лит <nofollow>также рекомендуется для</nofollow> металлизации плат, имеющих отношение толщины плат к диаметру отверстий 2,5 и менее. Добавка <noindex><nofollow>&laquo;ЛТИ&raquo; поставляется по ТУ</nofollow></noindex> АУЭО. 028.010. </p>
<p> Электролит 3 характеризуется более высоким содержанием серной кислоты при уменьшенной концентрации сернокислой <noindex>меди. Это</noindex> обстоятельство при наличии высокоэффективной добавки ПАВ обусловливает наиболее высокую рассеивающую способность среди кислых <noindex><nofollow>электролитов, которая приближается</nofollow></noindex> к рассеивающей способности пирофосфатных электролитов. Осадки меди гладкие, полублестящие.</p>
]]></content:encoded>
			<wfw:commentRss>http://schematika.ru/2009/05/elektrolit-posle-otstaivaniya/feed/</wfw:commentRss>
		</item>
		<item>
		<title>Продолжение табл. 10</title>
		<link>http://schematika.ru/2009/05/prodolzhenie-tabl-10/</link>
		<comments>http://schematika.ru/2009/05/prodolzhenie-tabl-10/#comments</comments>
		<pubDate>Thu, 07 May 2009 09:54:42 +0000</pubDate>
		<dc:creator>schematic</dc:creator>
		
		<category><![CDATA[Растворы химического меднения]]></category>

		<guid isPermaLink="false">http://schematika.ru/?p=37</guid>
		<description><![CDATA[


 Характер неполадок 


 Причины неполадок 


 Способы устранения 




 Медь не осаж. дается совсем 


 Завышено содержание стабилизаторов 
 Отклонение от нормы при активировании 


 Дополнить ваину свежим раствором без стабилизаторов 
 Проверить правильность выполнения операций активирования 



]]></description>
			<content:encoded><![CDATA[<table>
<tr>
<td>
<p> Характер неполадок </p>
</td>
<td>
<p> Причины неполадок </p>
</td>
<td>
<p> Способы устранения </p>
</td>
</tr>
<tr>
<td>
<p> Медь не осаж. дается совсем </p>
</td>
<td>
<p> Завышено содержание стабилизаторов </p>
<p> Отклонение от нормы при активировании </p>
</td>
<td>
<p> Дополнить <noindex>ваину свежим раствором без</noindex> стабилизаторов </p>
<p> Проверить правильность выполнения операций активирования </p>
</td>
</tr>
</table>
]]></content:encoded>
			<wfw:commentRss>http://schematika.ru/2009/05/prodolzhenie-tabl-10/feed/</wfw:commentRss>
		</item>
		<item>
		<title>Активирование поверхности</title>
		<link>http://schematika.ru/2009/04/aktivirovanie-poverxnosti/</link>
		<comments>http://schematika.ru/2009/04/aktivirovanie-poverxnosti/#comments</comments>
		<pubDate>Wed, 22 Apr 2009 14:25:14 +0000</pubDate>
		<dc:creator>schematic</dc:creator>
		
		<category><![CDATA[МЕТОДЫ КОНТРОЛЯ МЕХАНИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ]]></category>

		<category><![CDATA[Активирование поверхности]]></category>

		<guid isPermaLink="false">http://schematika.ru/?p=35</guid>
		<description><![CDATA[ Процесс химического меднения, как указывалось выше, является автокаталитнческим — в начале его требуется катализатор в виде частиц металлического палладия или другого вещества. Операция, 
 &#160; 
 в результате которой на диэлектрике создаются каталитические частицы, называется активированием. 
 В практике химического меднения полимерных материалов активирование осуществляют последовательной обработкой деталей вначале в растворе хлористого олова (SnCb-I-bO [...]]]></description>
			<content:encoded><![CDATA[<p> Процесс химического меднения, как указывалось выше, является автокаталитнческим — в начале его требуется катализатор <nofollow>в виде частиц</nofollow> металлического палладия или другого вещества. Операция, </p>
<p> &nbsp; </p>
<p> в результате которой на диэлектрике создаются каталитические частицы, <nofollow>называется активированием. </p>
<p> В практике</nofollow> химического меднения полимерных материалов активирование осуществляют последовательной обработкой деталей вначале в растворе хлористого <noindex><nofollow>олова (SnCb-I-bO</nofollow></noindex> 20—25 г/л, NaCl 40—60 мл/л), а затем после промывки в воде детали погружают <noindex>в раствор хлористого</noindex> палладия, содержащий 0,5—1,0 г/л РсЮг и 12—18 мл/л НС1 плотностью 1190 кг/м3 и <noindex><nofollow>снова промывают. Двухзарядные</nofollow></noindex> ионы олова, адсорбирующиеся на поверхности диэлектрика, восстанавливают ионы палладия на диэлектрике до металла <nofollow>по реакции: </p>
<p> Sn2++Pd2+~&gt;Sn4+ + Pd. </p>
<p> Такой</nofollow> способ активирования печатных плат из фольгированных диэлектриков не рекомендуется, так как на медной <nofollow>фольге вследствие реакции контактного</nofollow> обмена выделяется металлический палладий: </p>
<p> Cu + Pd2+-&gt; Cu2+ + Pd. </p>
<p> Это приводит к быстрому истощению <noindex>раствора активирования</noindex> и непрочному сцеплению слоя металла с медной фольгой. </p>
<p> Имеется другой вариант раствора активирования, в <noindex>котором палладий находится в</noindex> виде аммиачно-трилонатного комплекса, и в этом случае реакция контактного вытеснения палладия отсутствует. Раствор <noindex>этот содержит 3,5—4 г/л</noindex> хлористого палладия, 1.1— 12 г/л трилова Б н 300—350 мл/л 25 %-ного аммиака. <noindex>Температура раствора</noindex> 15—20 &deg;С, выдержка — 3—5 мин. </p>
<p> После промывок в воде детали необходимо обработать в <noindex>растворе гипофосфита иатрня, содержащем</noindex> 30—50 г/л ЫаНгРОг в течение 2—5 мнн с целью повышения каталитической активности поверхности, <noindex>так как гипофосфит,</noindex> будучи очень сильным восстановителем, способ-ствует более полному восстановлению палладия из довольно прочного комплесного <noindex><nofollow>соединения, в котором</nofollow></noindex> он находится. Активирование заготовок печатных плат в данном растворе применяется многими предприятиями. </p>
<p> За последние <nofollow>годы все</nofollow> большее применение получил метод прямого активирования посредством обработки заготовок плат в так называемом <noindex><nofollow>совмещенном растворе, содержащем</nofollow></noindex> одновременно ионы палладия и олова. Ниже приведен состав раствора (г/л). </p>
<p> Хлористое олово&#8230;&#8230;&#8230;&#8230;&nbsp;40—45 </p>
<p> Хлористый палладий &quot;&#8230;&#8230;&#8230;.&nbsp;0,8—1,0 </p>
<p> Соляная <noindex>кислота&#8230;&#8230;&#8230;&#8230; 75—80 </p>
<p> Хлористый</noindex> калий &#8230;&#8230;&#8230;..&nbsp;140—150 </p>
<p> Хлористый натрии&#8230;&#8230;&#8230;.. </p>
<p> В этом растворе палладий находится в двух формах: в виде коллоидных <nofollow>частиц металла и его</nofollow> комплексной соли. После обработки плат в совмещенном растворе следуют промывки в воде, в <nofollow>результате чего</nofollow> происходит гидролиз солей олова и адсорбция гидроокисных соединений олова вместе с солями палладия <noindex><nofollow>и его</nofollow></noindex> коллоидными частицами на поверхности диэлектрика. </p>
<p> Полное восстановление палладия и удаление солей олова имеет место <noindex><nofollow>при последующей обработке в</nofollow></noindex> растворе &laquo;ускорителя&raquo; (20—35 г/л NaOH) в течение 2 мин л промывке в проточной <noindex>воде. При этом</noindex> происходит коагуляция частиц палладия и отмывка от четырехвалентного соединения олова. </p>
<p> Очевидно, что промывочная операция <nofollow>в процессе активирования</nofollow> с помощью совмещенного раствора имеет важное значение. Если она недостаточна по времени, то <noindex>не произойдет</noindex> гидролиза каталитического комплекса, т. е.- не будет удален обволакивающий частицы палладия слой гидроокиси <nofollow>четырехвалентного олова. Удлинение</nofollow> времени промывки приводит к смыванию реагирующих компонентов, и эффект активирования не достигается. </p>
<p> Следовательно, активирование <noindex><nofollow>при использовании совмещенного раствора</nofollow></noindex> состоит из следующих операций: погружения в совмещенный раствор на 5—10 мин; промывки в <noindex>воде в</noindex> течение 2 мин; погружения в растовр &laquo;ускорителя&raquo; на 1—2 мин; промывки в воде <noindex>в течение</noindex> 2 мин; погружения в раствор химического меднения. </p>
<p> С целью улавливания соединений палладия, относящихся к <nofollow>категории драгоценных металлов, устанавливается</nofollow> не менее двух улавливателей с непроточной водой. Извлечение палладия из них производится по <nofollow>методике, изложенной ниже. </p>
<p> Приготовление совмещенного</nofollow> раствора активирования необходимо выполнять по следующей методике: навеску хлористого палладия растворить в соляной <noindex>кислоте из расчета 6</noindex> мл кислоты плотностю 1190 кг/м3 на 1 л приготавливаемого раствора при температуре 50—60 <nofollow>&deg;С. Раствор</nofollow> охладить, разбавив водой до 20 мл на 1 л. В отдельной порции растворить <nofollow>хлористое олово</nofollow> в соляной кислоте из расчета 20 мл кислоты на 1 л приготавливаемого раствора <nofollow>при температуре 40—50 &deg;С.</nofollow> Раствор охладить, добавив воды по 30 мл на 1 л раствора. Раствор хлористого <noindex>олова медленно вливать</noindex> в раствор хлористого палладия; выдержать полученную смесь при температуре 90—100 &deg;С в течение <nofollow>10—15 мин. Затем в</nofollow> полученный раствор влить оставшуюся кислоту и хлористый калий, растворенные в том количестве воды, <noindex>которое необходимо</noindex> для доведения ванны до рабочего уровня. Вода для приготовления растворов — дистиллированная. </p>
<p> Корректирование раствора <noindex>производится по</noindex> данным химического анализа. При уменьшении содержания SnCl2 до 10—12 г/л раствор корректируют введением <noindex>кристаллического SnCI-2H20, затем</noindex> подогревают до температуры 60—70 &deg;С в течение 10—12 мин. При уменьшении содержания PdCl2 <noindex>до 0,2—0,3</noindex> г/л раствор корректируют введением концентрированного раствора PdCI2 в соляной кислоте. В случае образования <noindex>есадка или</noindex> ослабления активирующей силы раствор корректируют пв всем компонентам и подогревают до температуры 60—70 <noindex>&deg;С в течение</noindex> 10^-20 мин. Раствор не следует фильтровать. </p>
<p> Извлечение палладия из отработанных растворов производится следующим образом. <nofollow>В отработанные растворы активирования</nofollow> и улавливатели погрузить цинковые стержни, добавив в улавливатели соляную кислоту (140 г/л) для <noindex><nofollow>создания кислой среды.</nofollow></noindex> В результате контактного обмена на поверхности цинковых стержней выделяется металлический палладий по реакции </p>
<p> Zn <noindex>+ PdCl2</noindex> -&quot;Pd + ZnClj. </p>
<p> Порошкообразный осадок палладия механически удаляется и растворяется в соляной кислоте, к <nofollow>которой добавлена перекись</nofollow> водорода (пергидроль) в количестве 10—20 мл/л. Полученный раствор нагревается до разложения перекиси водорода, <noindex>охлаждается и</noindex> анализируется. Раствор можно использовать для корректирования ванн активирования или после упаривания сухой остаток <noindex><nofollow>сдается в качестве</nofollow></noindex> возврати-мых отходов.</p>

	<br />Метки:<a href="http://schematika.ru/tag/aktivirovanie-poverxnosti/" title="Активирование поверхности" rel="tag">Активирование поверхности</a><br />

	<h4>Посмотрите также</h4>
	<ul class="st-related-posts">
	<li><a href="http://schematika.ru/2008/11/additivnyj-sposob-izgotovleniya-plat/" alt="Аддитивный способ изготовления плат" title="Аддитивный способ изготовления плат (2 Ноябрь 2008)">Аддитивный способ изготовления плат</a><br/><small> Этот способ предусматривает получение проводящего рисунка из меди толщиной 25—30 мкм, осажденной химическим способом (толстослойное химическое меднение). При этом слой меди должен иметь плотность 8800—8900 кг/м3, чистоту 99,8—99,9 %, электрическое сопротивление не более 0,0188 Ом-мм и эластичность, характеризующуюся величиной относительного удлинения e=4-f-6% Прочность сцепления меди с диэлектриком должна соответствовать ОТУ и составлять ие менее [...] </small></li>
</ul>

]]></content:encoded>
			<wfw:commentRss>http://schematika.ru/2009/04/aktivirovanie-poverxnosti/feed/</wfw:commentRss>
		</item>
		<item>
		<title>ГАЛЬВАНИЧЕСКИЕ ПРОЦЕССЫ</title>
		<link>http://schematika.ru/2009/04/galvanicheskie-processy/</link>
		<comments>http://schematika.ru/2009/04/galvanicheskie-processy/#comments</comments>
		<pubDate>Tue, 14 Apr 2009 05:18:21 +0000</pubDate>
		<dc:creator>schematic</dc:creator>
		
		<category><![CDATA[ГАЛЬВАНИЧЕСКИЕ ПРОЦЕССЫ]]></category>

		<category><![CDATA[Меднение]]></category>

		<guid isPermaLink="false">http://schematika.ru/?p=45</guid>
		<description><![CDATA[ 16. Меднение 
 Меднение является основным гальваническим процессом в производстве печатных плат; гальваническим меднением получают слой медн в монтажных и переходных отверстиях, а также проводящий рисунок в полуаддитивной технологии [6,7]. Из щелочных электролитов наиболее распространенными в производстве являются пиро-фосфатные электролиты. Из кислых электролитов известны фтор-боратные, сульфатные, кремнефторидные электролиты, в которых медь находится в виде [...]]]></description>
			<content:encoded><![CDATA[<p> 16. Меднение </p>
<p> Меднение является основным гальваническим процессом в производстве печатных плат; гальваническим меднением получают слой <noindex><nofollow>медн в монтажных</nofollow></noindex> и переходных отверстиях, а также проводящий рисунок в полуаддитивной технологии [6,7]. Из щелочных <nofollow>электролитов наиболее распространенными</nofollow> в производстве являются пиро-фосфатные электролиты. Из кислых электролитов известны фтор-боратные, сульфатные, кремнефторидные электролиты, <noindex><nofollow>в которых медь находится</nofollow></noindex> в виде солей: Cu&gt;(BF4)2, CuS04, CuSiF6, и некоторые другие (оксалатный). </p>
<p> Пирофосфатный электролит. Основной компонент <nofollow>электролита —</nofollow> комплексная соль меди — образуется в результате растворения пиро-фосфата меди в избытке пнрофосфата <noindex>калия по реакциям: </p>
<p> 2CUSO4</noindex> + K4P2O7 -&#9658; CU2P2O7 + 2K2SO4, </p>
<p> CU2P2O7 + ЗК4Р2О7&#8211; 2К6 [Си (Р207)2J. </p>
<p> 48 </p>
<p><img src="http://schematika.ru/wp-content/uploads/technika-9.png" alt="" width="252" height="52" />
<p> Состав (г/л) и <noindex>режим работы электролита приведены</noindex> ниже. </p>
<p> Сернокислая медь (CuS04-5H20)&#8230;&#8230;90 </p>
<p> Пнрофосфат калия (гмРгОг-ЗгЬО)&#8230;&#8230;350 </p>
<p> Лимонная кислота или цитрат калия&#8230;&#8230; 20 </p>
<p> Аммиак водный (25 %-ный), <nofollow>мл/л&#8230;&#8230;.1—2 </p>
<p> Селенит натрия (ЫагБеОз)&#8230;&#8230;&#8230;0,002 </p>
<p> рН&#8230;&#8230;&#8230;&#8230;&#8230;..8,3—8,5 </p>
<p> Температура электролита,</nofollow> &deg;С&#8230;&#8230;&#8230;35—50 </p>
<p> Катодная плотность тока, А/дм2. &#8230;&#8230;. 0,8—1,7 </p>
<p> Для приготовления электролита раствор сернокислой меди приливают небольшими <noindex><nofollow>порциями при интенсивном перемешивании</nofollow></noindex> к нагретому раствору пирофосфата натрия. Раствор при этом приобретает интенсивную синюю окраску. Затем <noindex>в полученный раствор</noindex> вводят поочередно лимонную кислоту и остальные компоненты. Разряд меди происходит из комплексного аниона, <noindex><nofollow>в результате чего этот</nofollow></noindex> процесс сопровождается значительной катодной поляризацией, обусловливающей мелкозернистую структуру покрытия и хорошие механические свойства <noindex><nofollow>осадка меди.</nofollow></noindex> Б производстве печатных плат пирофосфатиый электролит имеет следующие преимущества: высокую рассеивающую способность, обеспечивающую <noindex><nofollow>получение слоя меди в</nofollow></noindex> отверстиях 80—90 % от толщины слоя меди на проводниках при отношении толщины платы <noindex>к диаметру отверстия</noindex> 2:1; хорошую эластичность меди при отсутствии органических примесей и примесей фосфатов; возможность ведения <noindex>процесса при</noindex> непрерывной фильтрации через уголь из-за отсутствия органических добавок. </p>
<p> В то же время указанный электролит <noindex><nofollow>обладает рядом недостатков. </p>
<p> 1.&nbsp;Накопление</nofollow></noindex> фосфатов вследствие гидролиза пирофосфата. Накопление фосфатов обусловливает включение фосфора в осадок меди, доходящее <noindex>до 0,5</noindex> % по массе. Фосфор в меди приводит к затруднениям при пайке и хрупкости <noindex><nofollow>осадка. </p>
<p> 2.&nbsp;Охлаждение электролита</nofollow></noindex> влечет за собой кристаллизацию солей на анодах и стеиках ванны и возникновение при <noindex><nofollow>работе так называемой</nofollow></noindex> солевой пассивности анодов. </p>
<p> 3.&nbsp;Малая скорость осаждения меди вследствие низких плотностей тока. </p>
<p> 4.&nbsp;Большая чувствительность к примесям <noindex><nofollow>железа, свинца, хлора и</nofollow></noindex> органических продуктов. </p>
<p> 5.&nbsp;Невозможность использования более перспективных фоторезистов водощелочного проявления (СПФ-ВЩ). </p>
<p> Из числа электролитов, в которых <noindex>медь находится в виде</noindex> комплексного соединения, заслуживает внимания оксалатный электролит, обеспечивающий очень высокую рассеивающую способность и мелкозернистую <nofollow>структуру электролитического</nofollow> осадка, следующего состава (г/л) и режима работы; </p>
<p> Сернокислая медь (CuS04-5H^O)&#8230;&#8230;. 25 </p>
<p> Щавелевокислый аммоний&#8230;&#8230;&#8230; 50 </p>
<p> Щавелевая кислота&#8230;&#8230;&#8230;&#8230; <nofollow>10 </p>
<p> рН&#8230;&#8230;&#8230;&#8230;&#8230;&#8230;3,5—4.5 </p>
<p> Катоднан плотность тока</nofollow> U, А/дм2&#8230;&#8230;.1,0—2,&quot;0 </p>
<p> Фторборатный электролит. Состав фторборатных электролитов приведен в табл. 13. </p>
<p> Таблица 13. Состав фторборатных <nofollow>электролитов </p>
<table>
<tr>
<td>
<p> Компоненты и</nofollow> режим работы </p>
</td>
<td>
<p> Концентрация, г/л </p>
</td>
</tr>
<tr>
<td>
<p> Для &laquo;затяжки&raquo; хи^ мической меди </p>
</td>
<td>
<p> Для металлизации </p>
</td>
</tr>
<tr>
<td>
<p> Фторборатиая медь Борфтористоводородная кислота Борная кислота </p>
<p> Катодная <noindex><nofollow>плотность тока&quot;, А/дм&quot;* Температура</nofollow></noindex> электролита, &deg;С </p>
</td>
<td>
<p> 60-70 150—160 15—20 </p>
<p> 1—2 15—20 </p>
</td>
<td>
<p> 230—250 5-15 15—40 До 5 15—20 </p>
</td>
</tr>
</table>
<p> Преимуществом фторборатного электролита по <noindex>сравнению с другими электролитами</noindex> является наиболее высокая скорость осаждения меди вследствие применения повышенных плотностей тока, недостатки электролита <noindex>— низкая рассеивающая способность</noindex> (толщина покрытия в отверстиях при тех же условиях составляет 40— 50 % от <noindex><nofollow>толщины меди иа</nofollow></noindex> проводниках) и неэластичность осадков меди (относительное удлинение е = 2ч-3%). Хрупкость меди резко <noindex><nofollow>возрастает при попадании органических</nofollow></noindex> примесей и особенно продуктов выщелачивания пленочных фоторезистов. </p>
<p> Фторборат меди готовится в ванне посредством растворения <noindex><nofollow>основной углекислой соли</nofollow></noindex> меди в борфторнстоводородной кислоте по реакции </p>
<p> Cu(OH)2-CuC03 + 4HBF4 —&#9658; 2Cu(BF4)2 + 3H20 + <noindex><nofollow>С02. </p>
<p> Расчетное количество</nofollow></noindex> основной углекислой меди засыпается в ванну и в нее небольшими порциями вливается борфтористоводородная <noindex><nofollow>кислота до прекращения</nofollow></noindex> выделения углекислого газа. В полученный раствор вводится оставшаяся борфтористоводородная кислота и приготовленный в <noindex>отдельной порции раствор</noindex> борной кислоты.</p>

	<br />Метки:<a href="http://schematika.ru/tag/galvanicheskie-processy/" title="ГАЛЬВАНИЧЕСКИЕ ПРОЦЕССЫ" rel="tag">ГАЛЬВАНИЧЕСКИЕ ПРОЦЕССЫ</a>, <a href="http://schematika.ru/tag/mednenie/" title="Меднение" rel="tag">Меднение</a><br />

	<h4>Посмотрите также</h4>
	<ul class="st-related-posts">
	<li><a href="http://schematika.ru/2008/11/elektroximicheskij-sposob-polucheniya-pechatnyx-plat/" alt="Электрохимический способ получения печатных плат" title="Электрохимический способ получения печатных плат (3 Ноябрь 2008)">Электрохимический способ получения печатных плат</a><br/><small> Этот способ осуществляется посредством следующих основных операций: резки заготовок, сверления отверстий, подлежащих металлизации; подготовки поверхности; химического меднения; усиления меди гальваническим меднением; нанесения защитного рельефа на пробельные места^ гальванического меднения; гальванического покрытия сплавом олово—свинец; удаления защитного рельефа; травления меди с пробельных мест. 
 Исходным материалом служит нефольгированный стеклотекстолит марок СТЭФ-1-2ЛК (ТУ АУЭО.037.000) или СТЭК-1,5 (ТУ [...] </small></li>
	<li><a href="http://schematika.ru/2008/10/texnologicheskie-processy-izgotovleniya-pechatnyx-plat-kombinirovannym-metodom/" alt="Технологические процессы изготовления печатных плат комбинированным методом" title="Технологические процессы изготовления печатных плат комбинированным методом (17 Октябрь 2008)">Технологические процессы изготовления печатных плат комбинированным методом</a><br/><small>    Номер 
  &nbsp;    Номер 
   Операция 
     опера- 
   Операция 
   опера- 
     ции 
  &nbsp;    ции 
  &nbsp;     &nbsp;    А. [...] </small></li>
	<li><a href="http://schematika.ru/2007/10/sverlenie-otverstij-podlezhashhix-metallizacii/" alt="Сверление отверстий, подлежащих металлизации" title="Сверление отверстий, подлежащих металлизации (24 Октябрь 2007)">Сверление отверстий, подлежащих металлизации</a><br/><small> Сверление отверстий, подлежащих металлизации, является одной из важных операций в производстве печатных плат, так как от ее выполнения зависит качество металлизации и точность совмещения проводящих рисунков схемы. 
 Сверлением создается микрошероховатость поверхности, которая обусловливает хорошие условия для адсорбирования каталитических частиц палладия и соответственно последующее качественное меднение. Диаметр сверла, с помощью которого производится сверление, должен [...] </small></li>
	<li><a href="http://schematika.ru/2008/09/rekomenduetsya-zagotovki-plat/" alt="Рекомендуется заготовки плат" title="Рекомендуется заготовки плат (1 Сентябрь 2008)">Рекомендуется заготовки плат</a><br/><small> Рекомендуется заготовки плат перед активацией промывать в растворе соляной кислоты (50 г/л) во избежание разбавления раствора —активатора водой. 
 Усиление меди гальваническим меднением лучше производить в ваннах без добавок блескообразователен в любых электролитах. Толщина слоя меди при этом должна составлять 5—7 мкм. 
 Последующие операции технологического процесса: нанесение защитного рельефа, гальваническое меднение, гальваническое покрытие [...] </small></li>
	<li><a href="http://schematika.ru/2007/06/podgotovitelnye-operacii-pered-ximicheskim-medneniem/" alt="Подготовительные операции перед химическим меднением" title="Подготовительные операции перед химическим меднением (22 Июнь 2007)">Подготовительные операции перед химическим меднением</a><br/><small>    Операция 
   Номер варианта 
     1 
   2 
     Механическая зачистка фольги 
   + 
  &nbsp;      Химическое обезжиривание 
   + 
   + 
     [...] </small></li>
	<li><a href="http://schematika.ru/2008/12/opredelenie-elastichnosti/" alt="Определение эластичности" title="Определение эластичности (13 Декабрь 2008)">Определение эластичности</a><br/><small> Определение эластичности медных осадков производят следующим образом. На пластинку из коррозионно-стойкой стали методом фотопечати наносят защитный рисунок таким образом, чтобы последующим гальваническим меднением открытых участков поверхности можно было получить образец для разрыва, форма и размеры которого показаны на рис. 9. 
 Пластинку с нанесенным на се поверхность рисунком следует обезжирить венской известью, промыть водой, [...] </small></li>
</ul>

]]></content:encoded>
			<wfw:commentRss>http://schematika.ru/2009/04/galvanicheskie-processy/feed/</wfw:commentRss>
		</item>
		<item>
		<title>ПРЕДИСЛОВИЕ</title>
		<link>http://schematika.ru/2009/03/predislovie/</link>
		<comments>http://schematika.ru/2009/03/predislovie/#comments</comments>
		<pubDate>Sun, 15 Mar 2009 04:17:03 +0000</pubDate>
		<dc:creator>schematic</dc:creator>
		
		<category><![CDATA[ПРЕДИСЛОВИЕ]]></category>

		<category><![CDATA[Сеткография]]></category>

		<guid isPermaLink="false">http://schematika.ru/?p=1</guid>
		<description><![CDATA[ Автоматизация производственных процессов является одной из главных задач, поставленных перед всеми отраслями промышленности XXVI съездом КПСС. В производстве изделий машиностроения, приборостроения, средств вычислительной техники и бытовой радиоэлектронной аппаратуры широко применяются печатные платы как средство, обеспечивающее автоматизацию монтажно-сборочиых операций, снижение габаритных размеров аппаратуры, металлоемкости и повышение ряда конструктивных и эксплуатационных качеств изделий. 
 . При [...]]]></description>
			<content:encoded><![CDATA[<p> Автоматизация производственных процессов является одной из главных задач, поставленных перед всеми отраслями промышленности XXVI <noindex><nofollow>съездом КПСС. В</nofollow></noindex> производстве изделий машиностроения, приборостроения, средств вычислительной техники и бытовой радиоэлектронной аппаратуры широко применяются <noindex><nofollow>печатные платы как средство,</nofollow></noindex> обеспечивающее автоматизацию монтажно-сборочиых операций, снижение габаритных размеров аппаратуры, металлоемкости и повышение ряда конструктивных <noindex><nofollow>и эксплуатационных качеств изделий. </p>
<p> .</nofollow></noindex> При изготовлении печатных плат в зависимости от их конструктивных особенностей и масштабов производства <noindex>применяются различные варианты</noindex> технологических процессов, в которых используются многочисленные химико-технологические операции и операции механической обработки. </p>
<p> В брошюре <noindex><nofollow>рассматриваются оборудование</nofollow></noindex> и операции механической обработки, такие как сверление, резка, абразивная очистка поверхности; описываются различные <nofollow>способы получения защитных</nofollow> рисунков схемы: фотохимическая печать, сеткография; представлены условия выполнения операции травления, с помощью которой <nofollow>создается проводящий рисуиок в</nofollow> основных производственных процессах. </p>
<p> Особое внимание уделяется в книге технологии электрохимических процессов, применяемых при изготовлении <nofollow>печатных плат,</nofollow> так как они в первую очередь обеспечивают основные качества плат: равномерность осаждения металла, <noindex><nofollow>способность проводящего рисунка к</nofollow></noindex> пайке, необходимую эластичность слоя металлизации в отверстиях, электропроводность и другие функциональные свойства печатных <nofollow>плат. Для обеспечения</nofollow> указанных качеств металлических покрытий составы приведенных в брошюре растворов и электролитов гальванических ванн <nofollow>несколько отличаются</nofollow> от аналогичных растворов, применяемых в гальванотехнике и описанных в других выпусках библиотечки гальванотехника. </p>
<p> Для <noindex><nofollow>многих операций технологических</nofollow></noindex> процессов изготовления представлены краткие характеристики оборудования, и средств автоматизации, рекомендованных для производства. </p>
<p> Перечень основных <noindex><nofollow>диэлектрических материалов, используемых для</nofollow></noindex> изготовления печатных плат, с указанием соответствующих ГОСТ или технических условий дан в приложении <noindex><nofollow>к брошюре, эти</nofollow></noindex> сведения могут оказаться полезными при выборе материалов для плат. </p>
<p> <em> Для некоторых процессов приведены способы <nofollow>утилизации ценных материалов из</nofollow> отходов производства и, в частности, способы утилизации меди из отработанных травильных растворов. </em> </p>
<p> <em> В пределах <nofollow>небольшого объема настоящей</nofollow> брошюры не представилось возможным с исчерпывающей полнотой дать всю информацию, необходимую, например, при <noindex>разработке производственных инструкций,</noindex> однако читатель найдет ответы на многие вопросы, возникающие при внедрении новых технологических процессов. </em> </p>
<p> <em> Для <noindex><nofollow>облегчения этой</nofollow></noindex> задачи в тексте брошюры даны таблицы, характеризующие причины неполадок, возникающих в производстве печатных <noindex><nofollow>плат, а также приведены</nofollow></noindex> необходимые схемы технологических процессов. Все замечания и пожелания по данной книге просим направлять <noindex><nofollow>по адресу.</nofollow></noindex> 191065, Ленинград, ул. Дзержинского, 10, ДО издательства &laquo;Машиностроение&raquo;. </em></p>

	<br />Метки:<a href="http://schematika.ru/tag/predislovie/" title="ПРЕДИСЛОВИЕ" rel="tag">ПРЕДИСЛОВИЕ</a>, <a href="http://schematika.ru/tag/setkografiya/" title="Сеткография" rel="tag">Сеткография</a><br />

	<h4>Посмотрите также</h4>
	<ul class="st-related-posts">
	<li><a href="http://schematika.ru/2007/01/setkografiya/" alt="Сеткография" title="Сеткография (5 Январь 2007)">Сеткография</a><br/><small> Материалом для сетчатого трафарета могут служить шелковая сетка, синтетические ткани, металлические сетки. Шелковые сетки легко вытягиваются и склонны к набуханию от воздействия рвствори-телен, поэтому в настоящее время они применяются очень редко. Более устойчивы к истиранню и действию химических реагентов полиамидные и полиэфирные сетки плотностью от 56 до 180 нитей на 1 см. 
 Капроновая [...] </small></li>
</ul>

]]></content:encoded>
			<wfw:commentRss>http://schematika.ru/2009/03/predislovie/feed/</wfw:commentRss>
		</item>
		<item>
		<title>ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ ПРОЦЕССЫ ПРОИЗВОДСТВА ПЕЧАТНЫХ ПЛАТ</title>
		<link>http://schematika.ru/2009/02/texnologicheskie-processy-proizvodstva-pechatnyx-plat/</link>
		<comments>http://schematika.ru/2009/02/texnologicheskie-processy-proizvodstva-pechatnyx-plat/#comments</comments>
		<pubDate>Thu, 26 Feb 2009 01:17:03 +0000</pubDate>
		<dc:creator>schematic</dc:creator>
		
		<category><![CDATA[ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ ПРОЦЕССЫ ПРОИЗВОДСТВА ПЕЧАТНЫХ ПЛАТ]]></category>

		<category><![CDATA[Назначение и способы изготовления печатных плат]]></category>

		<guid isPermaLink="false">http://schematika.ru/?p=2</guid>
		<description><![CDATA[ 1. Назначение и способы изготовления печатных плат 
 Печатная плата представляет собой плоское изоляционное основание, на одной или обеих сторонах которого расположены токо-проводящие полоски металла (проводники) в соответствии с электрической схемой. 
 Печатные платы служат для монтажа на них электрорадиоэлементов (ЭРЭ) с помощью полуавтоматических н автоматических установок с последующей одновременной пайкой всех ЭРЭ погружением [...]]]></description>
			<content:encoded><![CDATA[<p> 1. Назначение и способы изготовления печатных плат </p>
<p> Печатная плата представляет собой плоское изоляционное основание, на <noindex>одной или обеих сторонах</noindex> которого расположены токо-проводящие полоски металла (проводники) в соответствии с электрической схемой. </p>
<p> Печатные платы служат <nofollow>для монтажа на</nofollow> них электрорадиоэлементов (ЭРЭ) с помощью полуавтоматических н автоматических установок с последующей одновременной пайкой <nofollow>всех ЭРЭ погружением</nofollow> в расплавленный припой или иа волне жидкого припоя ПОС-60. Отверстия на плате, в <noindex><nofollow>которые вставляются,</nofollow></noindex> выводы электрорадиоэлементов при монтаже, называют монтажными. Металлизированные отверстия, служащие для соединения проводников, расположенных <noindex>на обеих сторонах</noindex> платы, называют переходными. </p>
<p> Применение печатных плат позволяет облегчить настройку аппаратуры и исключить возможность ошибок <noindex>при ее монтаже,</noindex> так как расположение проводников и монтажных отверстий одинаково на всех платах данной схемы. <noindex>Использование печатных плат,</noindex> обусловливает также возможность уменьшения габаритных размеров аппаратуры, улучшения условий отвода тепла, снижения металлоемкости <noindex><nofollow>аппаратуры и обеспечивает другие</nofollow></noindex> конструктивно-технологические преимущества по сравнению с объемным монтажом. </p>
<p> К печатным платам предъявляется ряд требований по <nofollow>точности расположения</nofollow> проводящего рисунка, по величине сопротивления изоляции диэлектрика, механической прочности и др. (ГОСТ 23752—79). <nofollow>Одним из основных требований</nofollow> является обеспечение, способности к пайке, достигаемое соответствующим выбором гальванического покрытия и технологией металлизации, <nofollow>поэтому в производстве</nofollow> печатных плат особое внимание уделяется химико-гальваническим процессам.</p>

	<br />Метки:<a href="http://schematika.ru/tag/naznachenie-i-sposoby-izgotovleniya-pechatnyx-plat/" title="Назначение и способы изготовления печатных плат" rel="tag">Назначение и способы изготовления печатных плат</a>, <a href="http://schematika.ru/tag/texnologicheskie-processy-proizvodstva-pechatnyx-plat/" title="ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ ПРОЦЕССЫ ПРОИЗВОДСТВА ПЕЧАТНЫХ ПЛАТ" rel="tag">ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ ПРОЦЕССЫ ПРОИЗВОДСТВА ПЕЧАТНЫХ ПЛАТ</a><br />
]]></content:encoded>
			<wfw:commentRss>http://schematika.ru/2009/02/texnologicheskie-processy-proizvodstva-pechatnyx-plat/feed/</wfw:commentRss>
		</item>
		<item>
		<title>Побочной реакцией является гидролиз персульфата</title>
		<link>http://schematika.ru/2009/02/pobochnoj-reakciej-yavlyaetsya-gidroliz-persulfata/</link>
		<comments>http://schematika.ru/2009/02/pobochnoj-reakciej-yavlyaetsya-gidroliz-persulfata/#comments</comments>
		<pubDate>Wed, 04 Feb 2009 20:10:43 +0000</pubDate>
		<dc:creator>schematic</dc:creator>
		
		<category><![CDATA[ТРАВЛЕНИЕ МЕДИ]]></category>

		<guid isPermaLink="false">http://schematika.ru/?p=58</guid>
		<description><![CDATA[ (NH4hS2Oe + H20-&#62;- 2NH4HS04 + &#8216;/20a. 
 Раствор состоит из 200—250 г/л (NH4)2S208 и 5—7 г/л H2S04. Температура раствора — до 50 &#176;С, боковое травление 50— 80 мкм, емкость по меди — 35 г/л, максимальная скорость травления — 25 мкм/мин. Утилизация меди и более полное использование персульфата достигается посредством охлаждения отработанного раствора до температуры [...]]]></description>
			<content:encoded><![CDATA[<p> (NH4hS2Oe + H20-&gt;- 2NH4HS04 + &#8216;/20a. </p>
<p> Раствор состоит из 200—250 г/л (NH4)2S208 и 5—7 г/л <noindex><nofollow>H2S04. Температура раствора —</nofollow></noindex> до 50 &deg;С, боковое травление 50— 80 мкм, емкость по меди — 35 <noindex><nofollow>г/л, максимальная скорость травления</nofollow></noindex> — 25 мкм/мин. Утилизация меди и более полное использование персульфата достигается посредством охлаждения <noindex><nofollow>отработанного раствора</nofollow></noindex> до температуры +5&deg;С, при этом выпадают кристаллы солей меди в виде CuS04- (NH4)2S04-6H20. <noindex>Осаждению меди должна предшествовать</noindex> реакция перевода кислой соли NH4HSO4 (которая, как показано выше, образуется вследствие </p>
<p> гидролиза персульфатов) в <noindex>среднюю соль</noindex> (NH^SC^ с помощью водного раствора аммиака: </p>
<p> NH4HSO4 + NH4OH -&#9658; (NH4)2S04 + H20. </p>
<p> Затем следует <nofollow>дополнительное введение в</nofollow> реактор раствора C11SO4, чтобы обеспечить связывание сульфата аммония в вышеуказанную, двойную соль. </p>
<p> Растворы на <noindex><nofollow>основе персульфата</nofollow></noindex> аммония могут быть использованы как в негативном, так и в позитивном процессе, однако <nofollow>невозможность регенерации</nofollow> раствора, сложная система утилизации меди, неравномерный характер вытравливания, высокая стоимость и дефицитность персульфата <noindex><nofollow>аммония обусловливают ограниченное</nofollow></noindex> применение персульфатных растворов в производстве.</p>
]]></content:encoded>
			<wfw:commentRss>http://schematika.ru/2009/02/pobochnoj-reakciej-yavlyaetsya-gidroliz-persulfata/feed/</wfw:commentRss>
		</item>
	</channel>
</rss>

